بخشی از پاورپوینت
--- پاورپوینت شامل تصاویر میباشد ----
اسلاید 1 :
جهت پوشش دهي سطح فلزات روش هاي مختلفي همچون رسوب دهي شيميايي بخار (CVD) و لايه نشاني الكتروليتي كاتد و ... استفاده مي شود كه 2 روش So ge و كاشت يون با پلاسما نيز روش هايي جهت پوشش مي باشند. فرآيند So ge شامل يكسري واكنش هاي شيميايي تغييرناپذير است كه در حقيقت اين واكنش ها باعث تبديل مولكول هاي محلول هموژن اوليه به عنوان سل به يك مولكول نامحدود سنگين سه بعدي پليمري به عنوان ژل مي شوند و در روش پلاسما اسپري گاز تشكيل دهنده پلاسما كه در مرحله شروع قوس آرگن يا هليم است و پس از برقراري قوس پايدار به تركيبي از آرگن يا هليم يا هيدروژن يا نيتروژن تبديل مي شود از بين كاتد و آند عبور كرده و بر اثر تخليه الكتريكي اين ناحيه يونيزه مي گردد. مقدار انرژي صرف شده براي يونيزه كردن گاز، در ناحيه اي در خارج گذرگاه مابين كاتد و آند آزاد شده و به گرما تبديل مي گردد و بدين ترتيب دمايي در حدود 15000 درجه سانتيگراد حاصل خواهد شد و مولكول هاي منبسط شده گاز با سرعتي نزديك به صوت ذرات ماده پوشش به صورت پودر را كه ذوب شده اند، به سمت سطح قطعه خواهند راند و بدين ترتيب پوششي متراكم با چسبندگي بالا حاصل خواهد شد.
اسلاید 2 :
روش هاي مختلف پوشش دهي
1- روش پاشش حرارتي
در اين حالت از پودر براي توليد پوشش استفاده مي‌شود. به اين صورت كه پودر را با قدرت به سمت قطعه مورد نظر مي‌پاشيم و در مسير پاشش، پرتوليزر را قرار مي‌دهيم. پرتو ليزر با سرعت و قدرت زياد محيط را گرم مي‌كند و باعث مي‌شود پودر در مسير به صورت مذاب در آيد وقتي پودر با سطح تماس پيدا مي‌كند، به علت اختلاف دما پس از برخورد سريعاً سرد مي شود و پوشش نانو ساختار را شكل مي‌دهد.
اسلاید 3 :
2- روش رسوب دهي شيميايي بخار ((CVD
فرآيند CVD در فازگازي انجام مي‌شود. يعني مواد واكنش زا گاز هستند و فرآيندهاي شيميايي بين گازها صورت مي‌گيرد.
اين روش لايه نشاني ممكن است از طريق چند نوع واكنش شيميايي انجام شود: 1)پيروليز كه در آن از دماي زياد براي تجزية ماده استفاده مي‌شود؛ 2) فوتوليز كه در آن از نور فرابنفش يا فروسرخ براي تجزيه تركيب‌هاي گازي استفاده مي شود.
اسلاید 4 :
3- لايه نشاني الكتروليتي كاتد
اكسايش كاتد عموماً در تهيه لايه‌هاي اكسيدهاي فلزهاي معيني مثل آلومينيوم به كار مي‌رود. قطعه اي كه مي‌خواهد پوشش داده شود، به قطب كاتد وصل مي‌شود و در محلول الكتروليت قرار مي‌گيرد. در اين حالت اكسيژن هاي موجود در الكتروليت را جذب مي‌كند. يون ها از ميان لايه اي كه اكسيده شده است به وسيله يك ميدان الكتريكي تقويت و با اتم هاي قطعه فلزي تركيب مي‌شود و مولكول هاي اكسيد را روي سطح تشكيل مي‌دهد. معمولاً از نمك هاي مذاب مختلف، يا در برخي موارد از اسيدها، به عنوان الكتروليت استفاده مي شود. از نكاتي كه بايد مورد توجه قرار گيرد، ماده الكتروليت است. بعضي از الكتروليت ها فوراً اكسيد تشكيل شده را در خود حل مي‌كنند و در لايه ايجاد شده تخلخل ايجاد مي‌نمايند.
اسلاید 5 :
4- روش نيتروراسيون
اتم نيتروژن كوچك است و به همين علت به راحتي مي تواند به درون سطح اكثر مواد نفوذ كند. حال اگر اتم نيتروژن بتواند چند نانومتر داخل سطح نفوذ كند، يك نانو پوشش توليد كرده است. تركيب نيتروژن با موادي مانند فولاد، يك ماده سخت توليد مي‌كند.
5- روش رسوب دهي فيزيكي بخار
اسلاید 6 :
در اين روش در واقع از اصل محلولسازي و رسوب دهي جامدات در مايعات با استفاده از تغيير پارامترهايي مثل دما استفاده مي‌كنيم و محصولاتي مثل پوشش و پودر را به دست مي‌آوريم. براي اينكار، ابتدا از ماده اي كه مي‌خواهيم پوشش دهيم يك محلول تهيه مي كنيم و بعد با حرارت دادن اين محلول آن را تبديل به يك ماده ژلاتيني مي نماييم. با ادامه حرارت دادن، مواد معلق در محلول را روي ماده پذيرنده پوشش رسوب مي دهيم. حال اين رسوب مي‌تواند به صورت يك لايه پيوسته باشد كه در آن صورت يك لايه نانومتري تشكيل مي‌شود. يا اگر ضخامت اين لايه از 100 نانومتر بيشتر باشد، به علت اينكه از ذرات نانومتري تشكيل شده است، يك لاية نانو ساختار است. اما بايد دقت كرد كه دما و سرعت حرارت دهي و … ممكن است باعث شود كه به جاي يك لايه پيوسته، مجموعه اي از ذرات تشكيل دهنده لايه به صورت پودر تشكيل شوند. البته بايد يادآور شد كه پوشش هايي كه از اين روش توليد مي شوند داراي تخلخل هايي هستند كه خواص آنها را ضعيف مي‌كند.
اسلاید 7 :
فرآيند سل- ژل شامل يك سري واكنشهاي شيميايي تغيير ناپذير است كه در حقيقت اين واكنشها باعث تبديل مولكولهاي محلول هموژن اوليه به عنوان سل به يك مولكول نامحدود سنگين سه بعدي پليمري به عنوان ژل مي‌شوند، در حقيقت جامد الاستيك به وجودآمده باعث پرشدن حجم محلول موجود مي‌شود. بطور نمونه مي‌توان واكنش هيدروليزي كه در پي آن به وسيله پليمريزاسيون يك انقباض رخ داده و محصول نهايي بدست آمده را در نظر گرفت براي مثال :
tetraethy orthosi icate (Si(OC2H5)+ethano (C2H5OH)→Sio2+other products
اسلاید 8 :
در فرآيند سل- ژل انتقال سل به حالت ژل اغلب به وسيله تغيير PH و يا تغيير غلظت محلول به دست مي‌آيد. منفعت و استفاده اصلي فرآيند سل- ژل در توليد محصولي با خلوص بالا و دست يافتن به نانو ساختاري يكنواخت در دماي پايين است. اغلب روش سل- ژل جهت سنتز نانو اكسيدهاي فلزي كاربرد داشته و استفاده مي‌شود. اين فرآيند معمولا در برگيرنده تغيير فرم به حالت ژل با استفاده از تكنيك هاي مختلف و متفاوت است كه در اكثر آنها از خشك نمودن آهسته و ملايم به همراه برداشتن حلال استفاده مي شود. بايد توجه داشت كه به دليل وجود پديده انقباض در فرآيند سل- ژل اغلب بايد در طول فرآيند خشك كردن نكات لازم براي جلوگيري از به وجود آمدن ترك را رعايت نمود.
اسلاید 9 :
1- هيدروژل : ژلها را عموماً در محيط آبي تهيه مي‌كنند، اصطلاح هيدروژل به ژلي اطلاق مي‌شود كه حفرات آن توسط آب پر شده اند البته گاهي اوقات به آن Equage نيز گفته مي‌شود.
2- الكوژل : ژلي كه حفرات آن توسط الكل پر شده باشد ژلهائي كه از خشك كردن الكوژل بدست مي آيند داراي حفرات بيشتر و ساختار ژلي آبي تقريباً حفظ مي‌شود و شكستگي كمتري در ساختار در هنگام خشك كردن اتفاق مي‌افتد.
3- گزروژل : به ژلي گفته مي‌شود كه تمام مايع داخل حفرات ژل خارج شده باشد به گونه‌اي كه ساختار كمي متراكم تر و فشرده تر شده باشد. و چروكيدگي نسبت به وضعيت هيدروژل در آن مشهود است. در ضمن سطح ويژه آن كاهش يافته است.
اسلاید 10 :
4- آئروژل : در واقع نوعي ژل خشك است. بدين ترتيب كه محلول داخل ژل خارج شده است به گونه اي كه هيچ فشردگي يا تغييري در ساختار ژل ايجاد نشده است. اين نوع ژل عموماً بدين صورت تهيه مي‌شود كه ژل را تا دماي بحراني حلال حرارت مي دهند. بنابراين هيچ تعادلي بين مايع و بخار وجود ندارد. و ژل با سطح ويژه بالا با حفظ ساختار در حالت هيدروژل بدست مي‌آيد. شكل زير بيانگر حالات مختلف ژل است.
